2㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 반도체 공장이 건설 중인 대만 신주과학단지 TSMC 부지 앞. /AP연합

대만 법원이 세계 최대 파운드리(반도체 위탁생산) 업체 TSMC의 최첨단 기술인 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 공정 기밀 유출 사건 관련자들에게 최고 10년 형이 선고했다. 관련자들은 일본 최대의 반도체 장비업체인 도쿄일렉트론(TEL)에 관련 정보를 넘긴 것으로 알려졌다.

27일(현지시각) 대만중앙통신·블룸버그통신 등에 따르면 대만 지식재산·상업법원 재판부는 이날 국가보안법상 '국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 받는 TSMC 전 직원 천리밍에게 징역 10년 형을 선고했다.

앞서 대만 검찰은 TSMC를 퇴직한 이후 TEL로 이직한 천씨가 TSMC에서 일하던 다른 엔지니어들로부터 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면 등을 넘겨받았다면서 지난해 8월 천씨에게 징역 14년형을 구형한 바 있다.

천씨에게 기술을 유출한 혐의 등을 받는 다른 관련자 4명은 각각 2년·3년·6년 형 및 징역 10개월에 집행유예 3년형을 선고받았다. 대만 법원은 또 TEL 대만 지사에 벌금 1억5000만 대만달러(약 70억2000만원)를 부과하는 한편 TSMC 측에 1억 대만 달러(약 46억8000만원)를 지급하도록 했다.

대만 검찰은 "이번 기술 유출 사건은 대만 반도체 산업의 국제 경쟁력을 심각히 위협하는 사건"이라며 밝혔다.