SK하이닉스가 12조원 규모의 EUV(극자외선) 장비를 도입해 첨단 메모리 반도체 생산 능력 확대에 속도를 높인다.
24일 SK하이닉스는 네덜란드 장비업체 ASML로부터 EUV 스캐너를 도입하기로 결정했다고 공시했다. 총 취득 금액은 약 11조9496억원으로, 2024년 말 기준 자산총액의 9.97%에 해당한다. 거래는 2027년 12월까지 약 2년에 걸쳐 진행되며, 장비 도입과 설치·개조 비용이 포함된 금액이다.
이번 투자는 AI 산업 성장세에 큰 폭으로 증가하고 있는 첨단 메모리 반도체 수요에 대응하기 위한 것이다. SK하이닉스는 서버·모바일 등 전방 산업에서 범용 메모리 수요도 꾸준히 증가하고 있는 점을 고려해 공급 안정화에 주력할 방침이다. 특히 EUV 장비 도입을 통해 10나노급 6세대(1c) D램 공정 전환에 속도를 높일 계획이다.
1c 공정은 SK하이닉스가 세계 최초로 개발한 기술로, 차세대 HBM과 DDR5, LPDDR6 등 주요 제품군에 적용된다. 앞서 SK하이닉스는 1c DDR5 D램과 LPDDR6 제품을 잇달아 개발한 바 있다. 해당 공정은 생산성과 전력 효율을 향상하고, 데이터 처리 속도를 높이는 것이 특징이다.