삼성전자가 20일 조 바이든 미국 대통령의 평택캠퍼스 방문에 따라 공장의 내·외부 영상을 처음 공개했다.
삼성전자에 따르면 평택캠퍼스는 세계 최대 규모의 반도체 클러스터로, 총 부지 면적이 289만㎡(87만5000평)에 달한다. 이는 여의도 면적(약 290만㎡)과 비슷하고 축구장으로 400개에 해당하는 규모다.
평택 제1공장(P1)과 제2공장(P2)은 단일 반도체 생산라인(팹) 기준 각각 세계 최대 기록을 세웠다. 완공을 앞두고 있는 3라인(P3)은 더 큰 규모여서 완공 후 세계 최대 규모 기록을 갈아치울 것이 확실하다.
삼성전자는 평택캠퍼스에서 차세대 메모리 반도체를 생산하고, 초미세공정 파운드리(위탁생산) 등을 운영 중이다. 지난 2017년 가동을 시작한 P1에서는 메모리 반도체를 생산하고 있으며, P2의 경우 메모리와 파운드리가 함께 있는 복합 팹 구조다.
바이든 대통령은 P1과 P2 공장을 방문한 뒤, P3 공사 현장을 둘러본다. 삼성전자는 이날 하루 경호를 위해 P3 공사를 중단한 상태다. 업계는 삼성전자가 초미세공정인 3㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 공정을 바이든 대통령에게 처음으로 소개할 것으로 전망하고 있다.
바이든 대통령과 함께 삼성전자의 협력사인 미국 반도체 기업 퀄컴의 크리스티아노 아몬 최고경영자(CEO)도 평택캠퍼스를 찾는다. 삼성전자는 3㎚ 공정을 앞세워 기술 경쟁력을 강조할 것으로 보인다. 이재용 삼성전자 부회장이 직접 안내를 맡았다. 이 부회장과 한종희 삼성전자 DX부문장 부회장, 경계현 삼성전자 DS부문장 사장 등 주요 경영진이 평택캠퍼스에서 바이든 대통령과 윤석열 대통령을 맞는다.