핵융합硏, 국내 중소기업에 기술이전 협업
국가핵융합연구소(이하 핵융합연)는 최근 국내 중소기업과 협력을 통해 일본 수입 의존도 100%인 반도체 코팅 소재를 국산화했다고 29일 밝혔다. 국내 중소기업인 세원하드페이싱이 지난 2017년 핵융합연으로부터 이전받은 플라즈마 기술을 이용해 ‘이트륨옥사이드’를 개발한 것이다.
플라즈마 기술 개발자인 홍용철 핵융합연 박사는 "뛰어난 품질의 미세 용사 분말 제작이 가능한 플라즈마 기술은 반도체 공정 외에도 다양한 소재 산업에 활용할 수 있다"면서 "이를 활용한 소재 기술 국산화 연구를 지속할 계획이다"라고 말했다.
이트륨옥사이드는 플라즈마 에처와 화학증착장비(CVD) 내부 코팅 등 반도체 공정 장비에 적용되는 소재다. 특히 반도체, 자동차, 전자제품 등은 분말 상태의 이트륨옥사이드를 부품 겉표면에 분사해 내구성을 향상시킨다.
그러나 그동안 국내에서 생산된 이트륨옥사이드는 일본산보다 입자의 크기가 커 미세하고 치밀한 코팅막을 형성하기 어렵다는 문제가 있었다. 이에 기업들은 일본산 이트륨옥사이드 소재를 전량 수입해 왔다.
세원하드페이싱이 핵융합연의 플라즈마 기술을 이용해 개발한 이번 소재는 입자가 일본보다 작으면서 코팅막을 균일하게 형성할 수 있는 특성을 갖는다. 일본산의 경우 입자는 35마이크로미터이나 국내 개발 입자는 20마이크로미터이다.
유석재 핵융합연 소장은 "플라즈마 기술은 반도체 공정의 80% 가량을 차지하는 핵심 기술 중 하나"라며 "국내 기업들의 반도체 장비 및 소재 국산화를 위해 우리 연구소가 보유한 플라즈마 기술 지원을 보다 적극 추진하겠다"고 했다.