SKハイニックス元社員が営業秘密流出で実刑

中国企業に転職するためにSKハイニックス(000660)の営業秘密を持ち出した元社員が、控訴審でも実刑を言い渡された。

9日、法曹界によると、ソウル高裁刑事10-1部（イ・サンホ、イ・ジェシン、イ・ヘラン高裁判事）は、産業技術保護法違反、不正競争防止法違反、業務上背任の疑いで起訴された姓キムの人物に対し、最近、1審と同様の懲役1年6カ月を言い渡した。

キム氏はSKハイニックスの中国現地法人で勤務していた際、2022年に同社のCIS（CMOS Image Sensor・光をデジタル信号に変換する半導体素子）関連の先端技術と営業秘密を無断で流出させ、不正に使用・漏えいした疑いがある。

キム氏は中国最大の通信機器企業ファーウェイの子会社ハイシリコンなどから転職の誘いを受け、犯行に及んだとされる。

キム氏は履歴書の作成に活用するため、社内の文書管理システムから営業秘密資料を出力し、写真を撮影した。一部の秘密資料は実際に履歴書に引用し、中国企業に内容を漏らしたという。

1審でキム氏は営業秘密流出の容疑が有罪と認められ、実刑を言い渡された。

ただしHBM（高帯域幅メモリー）実装に必要なハイブリッドボンディング（Hybrid Bonding）技術関連資料を流出させた容疑は無罪と判断された。この技術が産業通商資源部（韓国の産業通商省）が規定する先端技術とみなせないという理由からである。

控訴審はこのような1審の判断に事実誤認や法理の誤解といった違法はないとみた。ただし、キム氏が犯行をすべて認めた点、流出した営業秘密の大部分が回収された点は量刑に有利な事情として考慮された。