ホバン文化財団のHアートラボ第4期入居者に選ばれたイム・スボム(左から時計回り)、ナ・グァンホ、ホ・オン、シン・ヒョジン、キム・セジュン、ホ・ジヘの計6人の作家・理論家が記念撮影している。/ホバングループ提供

ホバングループのホバン文化財団が創作空間支援事業「Hアートラボ」の第4期入居者6人を最終選定したと19日明らかにした。

Hアートラボは、作家と理論家が安定的な環境で創作と研究に集中できるよう創作空間とネットワークを支援するプログラムで、今年で4回目を迎えた。

ホバン文化財団は書類および面接審査を経て、Hアートラボ第4期の入居者として作家5人と理論家1人を最終選定した。

入居作家としてはキム・セジュン、ナ・グァンホ、イム・スボム、ホ・オン、ホ・ジヘの各作家が、理論家としてはシン・ヒョジンがそれぞれ選ばれた。彼らは1月から11月まで約10カ月間、光州のHアートラボ(光州広域市所在)に入居し、創作および研究活動を続ける予定である。

第4期入居者は自然と記憶、時間の永続性、場所と感覚、現実世界の向こう側への関心と感情、意識などを主要テーマに各自の仕事の世界を構築してきた。絵画、インスタレーション、写真、映像など多様な媒体を通じて同時代的な問いを解きほぐし、現代美術の現場で活発に活動している。

ホバン文化財団は入居者に光州Hアートラボに設けられた個人の創作空間を提供し、入居者間の交流プログラムと大衆と疎通する多様な活動を支援する。

これにより地域社会との接点を拡大し、レジデンシー(作品活動空間)の公共的役割を強化する予定である。1年にわたる創作の成果は来年上半期の成果報告展を通じて披露する計画だ。

ホバン文化財団の関係者は「Hアートラボは異なる背景の文化芸術従事者が一つの空間で交流し、シナジーを生み出していく場だ」と述べ、「作家5人と理論家1人が10カ月間ともに作り上げていくプロセスと成果に多くの関心をお願いしたい」と語った。

ホバン文化財団は、展示文化空間「ホバンアトリウム」をはじめ、国内の中堅・重鎮作家を支援する「ホバン美術賞」、有望な若手作家を発掘・支援するプログラム「H-EAA」(HOBAN-Emerging Artist Awards)、文化疎外層の芸術支援事業「芸術工房」など多様な文化芸術支援事業を運営し、国内の文化芸術の発展に寄与している。

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