サムスン電子とSKハイニックスが半導体生産に必要な用水使用を減らし、一度使用した水を再活用する水資源管理を加速している。サムスン電子はキョンギ・ファソン（Hwaseong）・オサン（Osan）とスウォン（Suwon）の下水処理水、1日約33万トンを半導体工業用水として再利用する事業を推進し、SKハイニックスは2030年までに累計6億トンの水資源を削減する目標を掲げた。
11日、業界によるとサムスン電子とSKハイニックスは9日からこの日までテグ（Daegu）エクスコ（EXCO）で開かれた「韓国国際水週間（KIWW）2026」に参加し、半導体事業所の水資源削減・再利用技術と生態系保全活動などを紹介した。KIWWは気候エネルギー環境部とテグ広域市、韓国水資源公社、韓国環境公団などが主催する国際的な水関連イベントである。
半導体製造工程ではウエハー洗浄などに多量の水が必要だ。半導体の生産能力が拡大するほど、安定的な用水の確保と使用済み水の再利用、放流水管理の重要性も高まる。サムスン電子は工程改善と設備の効率化を通じて水使用量を減らす一方で、事業所で使用した水を浄化して再活用している。気候エネルギー環境部や地方自治体などと協力し、公衆下水処理施設の放流水を高度に浄化した後に半導体工業用水として使用する事業も準備している。
ファソン・オサン地域の下水処理水1日約12万トンとスウォン地域の約21万トンなど、合計33万トン規模である。サムスン電子はこれにより既存の水源への依存度を下げつつ、半導体生産に必要な用水を安定的に確保する計画だ。
水資源管理の範囲も事業所外へ広げている。気候エネルギー環境部・韓国水資源公社とともに、ジャンフン（Jangheung）ダム上流のシンプン（Sinpung）湿地の機能を改善し、水資源を自然に還元し水質と生物多様性を保全する活動を推進している。事業所近隣のオサンチョン（Osancheon）では水質管理と生態系保全活動を継続している。
SKハイニックスは昨年、国内事業所で1日平均17万トンの用水使用を削減した。会社試算では約55万人が1日間生活用水として使用できる量である。SKハイニックスは2018年から「用・廃水削減タスクフォース（TF）」を運営し、生産工程での水使用を減らし再利用を拡大してきた。昨年までの累計水資源削減量は3億0337万トンで、従来目標の2億6400万トンを上回った。今年の累計削減量を3億2900万トンまで増やし、2030年には6億トンを達成する目標だ。
一度使用した水を再活用する量も増えている。SKハイニックスの用水再利用量は2022年の4788万トンから昨年は7359万トンへ約54%増加した。事業所別では、イチョン（Icheon）事業所の廃水再利用施設で1日9万4400トンの再利用水を生産し、大気汚染防止施設などに供給している。チョンジュ（Cheongju）事業所は2023年、国内半導体業界で初めて外部の下水処理再利用水を導入し、工業用水として活用している。
サムスン電子関係者は「今後も技術革新と官民協力を通じて水使用をさらに効率化し、再利用を拡大すると同時に、事業所近隣の自然と生態系まで併せて考慮する持続可能な水資源管理体制を強化していく計画だ」と語った。
SKハイニックス関係者は「半導体生産に不可欠な水の使用を抑え、使用した水は最大限再活用できるよう水資源管理体制を継続的に高度化する」と述べ、「工程改善と関連技術・設備投資も着実に拡大していく」とした。