中国国有企業が半導体製造用の深紫外線（DUV）露光装置の量産に入ったとの報が伝わり、グローバル露光装置首位のASMLの株価が急落した。
ブルームバーグ通信は27日（現地時間）、IT専門メディアのジ・インフォメーションを引用し、上海に本社を置く国営支援の半導体装置メーカーが液浸（Immersion）DUV露光装置の量産を開始したと報じた。社名は非公開で、今年は5台、来年は20台前後の装置を生産する計画と伝えた。
ジ・インフォメーションは、当該装置が中芯国際（SMIC）、長鑫存儲（CXMT）、華虹宏力（Hua Hong Semiconductor）など中国の主要半導体メーカーに供給される予定だと伝えた。中国の半導体企業は米国の輸出規制でEUV装置を確保できない代わりに、液浸DUV装置にマルチパターニング（Multi-Patterning）工程を適用し、スマートフォンと人工知能（AI）半導体の生産を継続する戦略である。
今回の装置を開発した主体は単一企業というよりも国産化の連合体に近い性格だとされる。ジ・インフォメーションは、ウー・リャンションを中心に複数の中国企業のDUV研究開発（R&D）組織を統合して開発が進んだと伝えた。
業界ではウー・リャンションとともにシンカイライ、上海微電子装備（SMEE）、ファーウェイ、清華大学の研究陣などが技術開発に参加したとみている。シンカイライはファーウェイ出身の人材が設立した半導体装置メーカーで、中国政府の半導体自立戦略で中核企業の一つに挙げられる。
露光装置はウエハー上に光を投射して回路を形成する半導体の中核装置である。工程の微細化水準により極紫外線（EUV）とDUV装置に区分され、DUVは主に10ナノメートル（㎚）以上の工程に活用される。最先端工程ではEUVの活用度が高いが、DUVも成熟工程および一部の先端工程で需要が堅調だ。
中国のDUV国産化の報が伝わると、この日ASMLの株価は8.4%急落した。米国の対中半導体輸出規制にもかかわらず、中国が自前の露光装置開発で成果を上げているとの期待が投資家心理に影響したとみられる。
米国は2019年からオランダ政府に圧力をかけ、ASMLのEUV露光装置の対中輸出を制限したのに続き、2023年には最先端の液浸DUV装置まで規制対象に含めた。最近では中国にすでに供給されたDUV装置の部品供給と保守サービスまで制限する「MATCH法案」も推進している。
ただし業界では、中国製装置は依然としてASMLと相当な技術格差があると評価する。ASMLが年間130台以上の液浸DUV装置を生産する一方で、中国製装置は今年の生産目標が5台水準にとどまる。技術水準もASMLの初期液浸DUV世代の段階で、精度と歩留まり、装置信頼性の面では依然として数年の差が存在するとの分析だ。
一方、業界では中国のDRAM最大手であるCXMTの新規株式公開（IPO）が、中国の半導体装置エコシステムの成長にもプラスに働くとの見方がある。
チェ・ソルファ・メリッツ証券アナリストは「CXMTの上場は資金調達以上の意味を持つ」と述べ、「CXMTが中国製装置を量産ラインに適用して歩留まりとエラーを改善する過程で、中国の装置メーカーは大規模量産の経験と学習効果を蓄積し、グローバル企業との技術格差を縮めていける」と語った。