オランダの世界最大の半導体露光装置メーカーであるASMLが、人工知能（AI）半導体への投資拡大を追い風に、今年第2四半期（2026年4〜6月）に市場予想を上回る業績を示した。年間売上高見通しも従来の360億〜400億ユーロ（約61兆2968億〜68兆1075億ウォン）から430億〜450億ユーロ（約73兆2156億〜76兆6210億ウォン）へ上方修正した。
ASMLは今年第2四半期の売上高が93億2650万ユーロ（約15兆8800億ウォン）で、前年同期比21.3%、前四半期比6.4%増加したと15日（現地時間）明らかにした。市場予想の88億ユーロ（約14兆9837億ウォン）を上回るサプライズ決算である。
この期間の営業利益は34億5610万ユーロ（約5兆8847億ウォン）で、前年同期比29.7%増となった。前四半期と比べると9.4%増加した。営業利益率は37.1%で、前年同期より2.5ポイント上昇した。同期間の純利益は29億1760万ユーロ（約4兆9678億ウォン）で、前年同期比27.4%増加した。
ASMLは今年の年間売上高見通しを、従来の360億〜400億ユーロ（約61兆2968億〜68兆1075億ウォン）から430億〜450億ユーロ（約73兆2156億〜76兆6210億ウォン）へ引き上げた。年間売上総利益率の予想も従来の51〜53%から54〜56%へ調整した。
ASMLは今年第3四半期（2026年7〜9月）の売上高見通しとして110億〜120億ユーロ（約18兆7296億〜20兆4323億ウォン）を示した。売上総利益率は55〜57%と見込んだ。研究開発費は約12億ユーロ（約2兆0432億ウォン）、販売管理費は約4億ユーロ（約6811億ウォン）と予想した。
今年第2四半期の事業別では、露光装置の販売売上高が65億6480万ユーロ（約11兆1778億ウォン）で前四半期比4.5%増加した。既設装置の保守・性能改善の売上高は27億6170万ユーロ（約4兆7023億ウォン）で11%伸びた。会社は保守・アップグレードの売上が当初見込みより約3億ユーロ多かった点を、業績改善の主因に挙げた。
今年第2四半期の装置売上のうち、極端紫外線（EUV）露光装置の比率は57%で最も大きかった。フッ化アルゴン液浸（ArFi）装置が29%、フッ化クリプトン（KrF）装置が6%を占めた。半導体の用途別では、先端ロジック半導体が51%、メモリが49%だった。出荷地域別の比率は、韓国が43%で最も高く、台湾30%、中国14%、米国9%、日本4%の順だった。
ASMLは今年第2四半期に新規露光装置86台と中古装置5台の計91台を販売したと明らかにした。製品別では、EUV装置16台、ArFi装置23台、ドライ型フッ化アルゴン（ArF Dry）装置8台、KrF装置35台、アイライン（I-line）装置9台が出荷された。前四半期の総販売台数は79台だった。
ASMLは、AI関連投資が先端ロジック・メモリ半導体の需要を押し上げ、顧客企業が生産能力拡充計画を前倒ししていると説明した。今年の先端ファウンドリ・ロジック部門の売上は前年より約25%、メモリ部門は75%増加する見通しだ。EUV事業の売上は45%、深紫外線（DUV）・計測・検査装置の売上は25%、保守・アップグレード事業は30%以上増えると見込んだ。
クリストフ・フーケASML最高経営責任者（CEO）は「持続的なAI投資と技術の進展が先端ロジック・メモリ半導体の需要を牽引している」と述べ、「顧客企業が生産能力拡大計画を加速するなか、長期需要に対する可視性も高まった」と語った。
ASMLは、今年約65台である低開口数（低NA・NAは開口数でレンズが光をどれだけ多く集められるかを示す数値）のEUV装置の生産能力を2027年に30%増やす計画だ。2028年にも追加で30%拡大する案を検討する。さらに、今年約130台であるDUV液浸装置の生産能力も2027年に30%増やし、翌年に追加増設を進める。
ASMLはまた、インテルが高開口数（High NA）EUV装置を活用し、インテル18Aプロセスを基盤とするノートブック向けプロセッサ「コア・ウルトラ・シリーズ3」の一部製品を量産していると明らかにした。高NA EUVが研究開発段階を越え、実際の量産プロセスに適用された初の事例である。