先端半導体の3D計測およびプロセス制御分野の企業ニアフィールド・インストゥルメンツが3億8,000万ドル規模のシリーズD投資を誘致したと22日に明らかにした。今回のラウンドでニアフィールドの企業価値は16億ドルと評価され、オランダのディープテック企業の中で過去最大規模の資金調達として記録された。
今回の投資はフィデリティ・マネジメント・アンド・リサーチ・カンパニーが新規投資家として主導した。既存投資家のテマセク、ウォルデン・キャタリスト・ベンチャーズ、イノベーション・インダストリーズ、M&G、インベストNLも参加し、カタールの政府系ファンドであるカタール投資庁も新規投資家として合流した。TNOベンチャーズやINGなど既存の投資社も、今回の超過分譲申し込みとなったラウンドに名を連ねた。
ニアフィールドは今回確保した投資資金を、イノベーション・ロードマップの短縮と生産能力の拡大に投入する計画だ。世界各地にアプリケーション・センター・オブ・エクセレンスを設立し、グローバルな顧客支援組織を強化すると同時に、主要半導体メーカーとの共同研究開発も拡大する方針である。
AI技術の拡散に伴い、半導体産業はエネルギー消費を抑えつつコンピューティング性能を引き上げなければならない課題に直面している。ニアフィールドの計測・検査ソリューションは、先端プロセス制御と歩留まり向上、安定的な量産を支援する高精度・高スループットの測定技術を提供する。とりわけ高開口数極端紫外線（High-NA EUV）、ゲート・オール・アラウンド（GAA）、相補型電界効果トランジスタ（CFET）アーキテクチャ、ハイブリッドボンディングに基づく3D集積など、次世代プロセスに必要な中核の計測技術を保有している。
ハメド・サデギアン共同創業者兼最高経営責任者は「今回の投資ラウンドの成功裏の締めくくりは、ニアフィールドの成長の歩みにおける重要な分岐点だ」と述べ、「AI基盤の半導体イノベーション時代に、計測および検査技術の戦略的重要性が一段と高まっていることを示す」と明らかにした。続けて「ニアフィールドはもはや新興企業ではない。市場に確固として位置づけ、規模を拡大し、産業を先導するグローバル技術企業を築いている」と語った。
ニランジャン・シルデーシュパンデM&Gインベストメンツ・カタリスト部門総括は「世界的な半導体需要が加速する中で、原子レベルの精度でチップを製造できる能力は戦略的な必須要素になっている」と述べ、「ニアフィールドの計測プラットフォームは、先端のチップメーカーが次世代ノードと3D統合アーキテクチャへ進む際に直面するプロセス制御の課題を直接解決する」と説明した。
ソン・ヨングォン、ウォルデン・キャタリスト・ベンチャーズ創業マネージング・パートナーは「ニアフィールドはAIの急速な拡大と、ますます複雑化する3D半導体アーキテクチャへの転換という二つの産業変化の交差点で事業を展開している」と述べ、「半導体産業が新たな局面に入る中で、先端計測および検査は次世代チップのイノベーションを可能にする中核要素になる」と付け加えた。