台湾裁判所TSMC2ナノ流出で元社員に懲役10年 TEL台湾に罰金科す

台湾の裁判所が、世界最大のファウンドリー（半導体受託生産）であるTSMCの最先端技術である2ナノメートル（10億分の1メートル）工程の機密流出事件の関係者に対し、最長で懲役10年を言い渡した。関係者は日本最大の半導体製造装置メーカーである東京エレクトロン（TEL）に関連情報を渡したとされる。

27日（現地時間）、台湾中央通信社・ブルームバーグ通信などによると、台湾知的財産・商業法院の合議体はこの日、国家保安法上の「国家核心主要技術の営業秘密の域外使用」などの容疑を受けるTSMC元社員のチェン・リミンに懲役10年を言い渡した。

先に台湾検察は、TSMCを退職後にTELへ転職したチェン氏が、TSMCで勤務していた他のエンジニアから携帯電話で撮影した2ナノ工程の技術図面などを受け取ったとして、昨年8月にチェン氏に懲役14年を求刑した経緯がある。

チェン氏に技術を流出した容疑などを受ける他の関係者4人には、それぞれ懲役2年・3年・6年および懲役10カ月に執行猶予3年が言い渡された。台湾の裁判所はまた、TEL台湾支社に1億5000万台湾ドル（約70億2000万ウォン）の罰金を科す一方、TSMC側に1億台湾ドル（約46億8000万ウォン）を支払うよう命じた。

台湾検察は「今回の技術流出事件は台湾の半導体産業の国際競争力を深刻に脅かす事件だ」と明らかにした。