半導体露光装置で世界首位のASMLが、今年第1四半期の売上高が87.7億ユーロ（約13兆3304億ウォン）だったと明らかにした。直前四半期比で売上高は小幅減となったが、前年同期比では明確な成長を示し、AI需要の回復基調を確認した。とりわけ中国市場への依存度を下げ、顧客基盤を多角化した。
15日（現地時間）ASMLは第1四半期の売上高87.7億ユーロ（約13兆3304億ウォン）、売上総利益率53%を記録したと明らかにした。これは市場コンセンサスだった86億ユーロを上回る数値である。
前四半期（97億ユーロ）比で売上高は季節的な閑散期の影響で小幅減となったが、前年同期（77.4億ユーロ）比で約13.3%成長し、急速な回復曲線を描いた。とりわけインストールベース管理（サービス・フィールドオプション）売上が24.9億ユーロとなり、前四半期比で大きく伸びて業績を下支えした。
ASMLは今年の通期売上ガイダンスを従来比で上方修正した。2026年の総売上を360億〜400億ユーロと示し、売上総利益率は51〜53%で維持した。これはAI関連インフラ投資の拡大を追い風に、顧客企業の生産能力拡大計画が加速しているとの判断によるものだ。
規制リスクが大きい中国市場の比重縮小も今回の業績の重要ポイントだ。昨年ASML売上の30〜40%を占め、「中国買いだめ」論争を招いた中国向け売上比率が、今期は19%へと大きく低下した。米中対立に伴う輸出規制が強化されるなか、ASMLが目標としてきた「中国比重20%台の定着」が進行中である。
中国の旧式装置需要が抜けた穴を、韓国の高帯域幅メモリー（HBM）インフラ拡大と台湾の次世代ファウンドリー需要が埋めた。とりわけサムスン電子とSKハイニックスがHBM4生産に向けてEUV装置の導入を加速させており、韓国が改めてASMLの中核戦略市場として浮上したとの見方である。
とりわけ2ナノ以下の超微細プロセス競争に不可欠な次世代露光装置であるハイNA（High-NA）EUV（EXE:5000）が、研究開発段階を越え、実際の量産ラインへの配備が進行中だ。1台あたり5000億ウォンを上回るこの装置は、インテル・サムスン電子・TSMCなどが確保に注力しており、ASMLの平均販売単価（ASP）を押し上げることにも寄与している。ASML装置のリードタイムが通常12〜18カ月であることを踏まえると、今後2027年以降も半導体市場の成長基調が続くことを示すデータでもある。
クリストフ・フーケASML CEOは「第1四半期の売上高はガイダンスの範囲内で良好に着地し、売上総利益率はガイダンスの上限を達成した」と述べ、「顧客企業が2026年以降の生産能力拡大計画を加速しており、これに伴い当社の受注も非常に強力に続いている」と語った。